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ORION NanoFab

Ihr Ionenstrahl-Mikroskop für Anwendungen im Bereich unter 10 nm

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ORION NanoFab

EVO® HD – Hohe Leistung, enorme Flexibilität

Ihr 3-in-1 Multistrahl-Ionenmikroskop für Nanostrukturierung im Bereich unter 10nm

Erstellen Sie schnell und präzise Nanostrukturen unter 10 nm. Wechseln Sie mit ORION NanoFab nahtlos zwischen Gallium-, Neon- und Helium-Strahlen:

  • Verwenden Sie den Neonstrahl, um Nanostrukturen mit großer Schnelligkeit und hohem Durchsatz zu bearbeiten.
  • Verwenden Sie den Heliumstrahl zur Herstellung empfindlicher Strukturen unter 10 nm.
  • Verwenden Sie das optionale Gallium-FIB zur Abtragung von massivem Material.


Mit ORION NanoFab profitieren Sie von dem einzigen System der Welt, das das vollständige Applikationsspektrum von Mikro- bis hin zur Nanobearbeitung abdeckt und mit Gallium-, Neon- und Helium-Ionenstrahlen arbeitet, die in einem einzigen Instrument integriert sind.


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  • Schnelle Bearbeitung von Strukturen unter 10 nm
    Erzeugen Sie mit Neon- und Helium-Ionenstrahlen feine Strukturen unter 10 Nanometer, die eine extrem hohe Bearbeitungstreue erfordern. Ob es bei Ihrer Anwendung um Materialabtragung durch Sputtern, gasinduziertes Ätzen, Deposition oder Lithografie geht - ORION NanoFab arbeitet in der Sub-10 nm-Fabrikation schnell und präzise.

  • Drei Strahlen in einem Instrument
    Verwenden Sie das Gallium-FIB zur Abtragung von massivem Material. Nutzen Sie den Neonstrahl für eine schnelle Präzisions-Nanobearbeitung oder den Heliumstrahl für die Herstellung feiner Strukturen unter 10 nm. Mit Neon- und Helium-Ionenstrahlen vermeiden Sie die Verunreinigung von Beschichtungen.

  • Hoch auflösendes Imaging
    Mit einer Auflösung von 0,5 nm erzeugt ORION NanoFab hochauflösende Bilder Ihrer Probe mit demselben Instrument, das für die Fertigung verwendet wurde. Erhalten Sie neue Einblicke durch Bilder mit einer 5- bis 10mal größeren Schärfentiefe im Vergleich zu Bildern, die mit FE-SEMs aufgenommen wurden.

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Orion NanoFab ist mit der NanoPatterning- und Visualization Engine, einem integrierten Hard- und Softwaresteuerungssystem, ausgestattet. NVPE beinhaltet einen speziellen 16 Bit-Scan-Generator für jede NanoFab-Säule und eine duale Signalerfassungs-Hardware, die erweitertes Echtzeit-Patterning und Visualisierung unterstützt. Steuern Sie den Strahl vollständig über eine GUI: Erzeugen Sie eine Reihe voll editierbarer Formen wie Rechtecke, Trapeze, Vielecke, Linien, Polylinien, Ellipsen und Punkte. Füllen Sie diese Formen, während Sie die volle Kontrolle über Dosisänderungs- und Patterning-Parameter behalten.

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ORION NanoFab

Three Ion Beams for Total Flexibility in Sub10-nm Fabrication

Seiten: 16
Dateigröße: 5.416 kB
Revision 16.08.2016

 

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