ZEISS bei parts2clean 2015

Mikroskopieveranstaltungen

ZEISS auf der parts2clean 2015

09. - 11. Juni, Stuttgart - Halle 4, #C40

Wir laden Sie herzlich ein, uns auf der parts2clean 2015, der internationalen Leitmesse für industrielle Teile- und Oberflächenreinigung zu besuchen.

Informieren Sie sich über ZEISS Imaging-Systeme, die nach Ihren Bedürfnissen der Sauberkeitsprüfung konfiguriert werden. Klassifizieren Sie prozesskritische Partikel durch Licht- und Elektronenmikroskopie nach ISO 16232 und kombinieren Sie Ihre Daten in einem korrelativen Workflow mit Correlative Particle Analysis (CAPA).

 

Merken Sie sich den ZEISS Talk im parts2clean Expert Forum am 11. Juni um 11:30 Uhr vor:
"Von der Standard- zur weiterführenden Analyse: Informationsgewinn und Herausforderungen" (Dr. Jati Kastanja)

 

  • Korrelativer Workflow mit CAPA

    Lichtmikroskopiebild eines Metallpartikels

    Elektronenmikroskopiebild desselben Partikels

    Correlative Particle Analysis (CAPA) kombiniert Ihre Daten von Licht- und Elektronenmikroskopen

  • Maßgeschneiderte Lösungen

    Informieren Sie sich hier über die maßgeschneiderten ZEISS Lösungen in der Sauberkeitsprüfung.
    Ölanalyse
    Technische Sauberkeit
    Nano- und korrelative Analysen

     

  • ZEISS Systeme am Stand

    ParticleSCAN VP

    Axio Zoom.V16

    Korrelative Partikelanalyse

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