Die Technologie hinter ZEISS Crossbeam
SEM-Elektronenoptik
Entscheiden Sie sich für eine von zwei Säulen
Feldemissions-SEMs wurden für hochauflösendes Imaging entwickelt. Der Schlüssel zur Leistungsfähigkeit eines Feldemissions-SEM liegt in seiner elektronenoptischen Säule. Die Gemini-Technologie ist in alle ZEISS FE-SEMs und FIB-SEMs integriert: Sie ist optimiert für die herausragende Auflösung jeder Probe, insbesondere bei niedrigen Beschleunigungsspannungen, und sorgt für eine umfassende und effiziente Detektion und Benutzerfreundlichkeit.
Die Gemini-Optik zeichnet sich durch drei Hauptkomponenten aus:
- Das Gemini-Objektivlinsendesign kombiniert elektrostatische und magnetische Felder, um die optische Performance zu maximieren und gleichzeitig die Feldeinflüsse auf die Probe auf ein Minimum zu reduzieren. Dies ermöglicht ein ausgezeichnetes Imaging auch bei schwierigen Proben wie magnetischen Materialien.
- Die Gemini-Beambooster-Technologie, eine integrierte Strahlabbremsung, ermöglicht geringe Sondengrößen und ein hohes Signal-Rausch-Verhältnis.
- Das Gemini-Konzept der Inlens-Detektion gewährleistet eine effiziente Signaldetektion durch parallele Erfassung von Sekundärelektronen (SE) und Rückstreuelektronen (BSE) bei einer verringerten Bilderfassungszeit.
Vorteile für Ihre FIB-SEM-Anwendungen:
- Langfristige Stabilität der SEM-Justage und mühelose Anpassung aller Systemparameter wie Sondenstromstärke und Beschleunigungsspannung
- Erreichen Sie verzerrungsfreies, hochauflösendes Imaging auch bei großen Sehfeldern mithilfe von nahezu magnetfeldfreier Optik
- Neigen Sie die Probe, ohne die elektronenoptische Leistung zu beeinflussen
ZEISS Crossbeam 350:
Gemini Säule mit Einfach-Kondensor, einem Inlens Detektor und VP Funktionalität.
Crossbeam 350 mit Gemini I
- Maximale Flexibilität bei Proben in Mehrzweckumgebungen
- In-situ-Experimente mit ausgasenden oder leitfähigen Proben
- Einmaliger Gemini-Materialkontrast mit dem Inlens EsB Detektor
ZEISS Crossbeam 550:
Gemini II Säule mit Doppel-Kondensor und zwei Inlens Detektoren.
Crossbeam 550 mit Gemini II
- Hohe Auflösung selbst bei geringer Spannung und hoher Stromstärke dank Doppelkondensorsystem
- Erfassung von mehr Informationen in kürzerer Zeit mit hochauflösendem Imaging und schnellen Analysen
- Einzigartiger Topografie- und Materialkontrast mit simultanem SE- und EsB-Imaging
Gemini Novel Optik
Profit from Surface Sensitive Imaging
Heutige SEM-Anwendungen erfordern standardmäßig hochauflösendes Imaging bei geringer Landeenergie. Das ist wichtig für:
- strahlenempfindliche Proben
- nicht leitende Materialien
- den Erwerb echter Informationen aus der Probenoberfläche ohne unerwünschte Hintergrundsignale von tieferen Probenschichten
Die neuartige Gemini-Optik ist optimiert für Auflösungen bei geringen und sehr geringen Spannungen sowie zur Kontrastverbesserung.
Zu den technologischen Merkmalen zählen der hochauflösende Quellenmodus und die Tandem decel-Option.
Der hochauflösende Quellenmodus führt zu einer verringerten chromatischen Aberration, da die primäre Energiebreite um 30 % reduziert wird.
Tandem decel, eine zusätzliche externe Vorspannung an der Probe von bis zu 5 kV verbessert die Imaging Qualität bei Niederspannung.
Tandem decel wird jetzt mit ZEISS Crossbeam 550 vorgestellt und kann in zwei verschiedenen Modi verwendet werden:
- Tandem decel, ein zweistufiger Abbremsungsmodus, kombiniert die Beambooster-Technologie mit einer hohen negativen Vorspannung, die an der Probe angelegt wird: Die Elektronen des primären Elektronenstrahls werden abgebremst, wodurch die Auftrittsenergie effektiv reduziert wird.
- Legen Sie eine variable negative Vorspannung zwischen 50 und 100 V an. Ein Anwendungsmodus der den Kontrast Ihrer Bilder verbessert.
- Legen Sie eine negative Vorspannung zwischen 1 und 5 kV an und verbessern Sie die Auflösung Ihrer Bilder bei niedrigen kV-Werten.
ZEISS Crossbeam 550: Gemini II Säule mit Doppel-Kondensor und zwei Inlens Detektoren und einer FIB-Säule angeordnet unter einem Neigungswinkel von 54°.
FIB-SEM Technologie
Entdecken Sie eine neue Art der FIB-Bearbeitung
Die ZEISS Crossbeam-Produktfamilie ist mit einer FIB-Säule der nächsten Generation ausgestattet – Ion-sculptor. Sie zeichnet sich dadurch aus, dass sie hohe Durchsätze bei hohen Ionenstrahlströmen erzielt und gleichzeitig bei niedrigen Landeenergien eine exzellente Performance hat. Dies ermöglicht die Anfertigung qualitativ hochwertiger Proben.
- Maximieren Sie die Probenqualität, indem Sie die Fähigkeiten der FIB-Säule bei Niederspannungen nutzen
- Minimieren Sie die Amorphisierung der Proben und erzielen Sie beste Resultate nach dem Dünnen
- Erhalten Sie präzise und reproduzierbare Ergebnisse durch maximaler Stabilität der FIB-Säule
- Durch schnelle Wechsel zwischen verschiedenen Strahlströmen beschleunigen Sie Ihre FIB-Applikationen
- Mit Hilfe von Strahlströme mit Stärken bis zu 100 nA führen Sie Hochdurchsatz-Experimente aus
- Erzielen Sie exzellente FIB-Auflösungen von weniger als 3 nm
- Die Crossbeam-Produktfamilie ist jetzt zusätzlich mit einer automatisierten Funktion für FIB „emission recovery“ für Langzeit-Experimente ausgestattet